Poremizing Quick clay stick mask
Bâton d'argile qui nettoie rapidement et facilement la peau obstruée et élimine le sébum et les impuretés des pores sans irritation, pour une peau propre et rafraîchie.
Vous voulez enrichir votre routine de soin habituelle pour obtenir une peau encore plus parfaite et purifiée vraiment en profondeur? Le masque purifiant SKIN1004 Poremizing Quick Clay Stick Mask complète votre nettoyant en gel, mousse ou crème préféré pour désincruster les pores en dégageant toutes les impuretés et tous les résidus de maquillage. De plus, il aide à réguler la production de sébum et réduit les brillances indésirables.
Ingrédients clés :
Grâce à sa puissante capacité d'absorption du sébum, ce produit contient 5 types d'argile, dont de la boue blanche et 18% de kaolin. Il adhère étroitement à la peau, éliminant l'excès de sébum qui obstrue les pores, rendant la peau plus lisse et plus affinée.
Ses +:
- élimine les points noirs
- libère les impuretés présentes dans les pores et referme les pores
- nettoie les pores efficacement
- évite la surproduction de sébum cutané
Utilisation :
1. Ouvrir le capuchon extérieur et tourner la moitié inférieure pour retirer le capuchon intérieur.
2. Appliquez une quantité appropriée sur le visage en évitant les yeux et la bouche et laissez agir 2 à 3 minutes. *laissez-le agir 10 à 15 minutes avant de rincer pour un effet renforcé*.
3. Une fois sec, rincez délicatement à l'eau.
Ingrédients:
Eau, kaolin, dipropylène glycol, glycérine, dioxyde de titane (CI 77891), butylène glycol, stéarate de sodium, extrait de Centella Asiatica, 1,2-hexanediol, poudre de graines de Phaseolus Angularis, extrait de feuille d'Aloe Barbadensis, olivate de cétéaryle, propanediol, Olivate de sorbitan, diméthicone, oxydes de fer (CI 77491), éthylhexylglycérine, phytate de sodium, bentonite, illite, sels minéraux, montmorillonite, calamine
Contenu: 27g
